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华中科技大学团队成功研发国内首款全自主计算光刻 EDA 之 OPC 软件

admin2022-11-27 05:40 260人已围观

简介华中科技大学团队成功研发国内首款全自主计算光刻 EDA 之 OPC 软件

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11 月 26 日消息，据中国光谷、湖北卫视等报道，华中科技大学教授刘世元创立的宇微光学软件有限公司（简称“宇微光学”），已成功研发全国产、自主可控的计算光刻 OPC 软件，填补国内空白。目前正在做集成与测试，并到芯片生产厂商做验证，孵化企业的武汉光电工研院也将提供技术转化服务。

OPC 软件，即“光学邻近校正软件”，是芯片设计工具 EDA 的一种，没有它，即使用了光刻机，也造不出芯片。

据刘世元介绍，光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。在 90nm 甚至 180nm 以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为 OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化。没有 OPC，所有 IC 制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。

刘世元是华中科技大学光学与电子信息学院、机械科学与工程学院双聘教授，博士生导师；华中科技大学集成电路测量装备研究中心主任，同时也是光谷实验室集成电路测量检测技术创新中心主任。他早年师从华中理工大学前校长、著名机械学家杨叔子院士，于 1998 年获工学博士学位。

刘世元在 2002 年加盟上海微电子装备有限公司 (SMEE)，承担国家 863 重大专项 ——“100nm 光刻机”研制任务，为总体组成员、控制学科负责人。刘世元组建了 SMEE 第一个控制工程实验室，解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步控制的技术难题。

2020 年 10 月，刘世元成立宇微光学公司。目前，团队除 2 名行政人员外，全部为研发人员，他们来自中国、美国、俄罗斯等不同国家，在相关领域均为顶尖技术专家，30% 以上成员拥有博士学位，具有丰富的行业经验。最终打造出自主可控的 OPC 软件算法。

获悉，宇微光学近期宣布完成 Pre-A 轮数千万元融资。本轮融资完成后，宇微光学将进一步加强各核心模块的集成化与软件产品化，同时对各项软件参数进行标定、测试与验证。下一步，宇微光学将加快产品推广步伐，加快进入国内外芯片制造厂商市场，力争成为全球芯片产业链中重要的一环。

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